12月25日，国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机在合肥问世，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。图为科研人员展示一张刻有电子芯片电路图的成品晶元。新华社供图（科学时报）